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Fundamental Principles of Optical Lithography : The Science of Microfabrication - Kees Boersma
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Kees Boersma:

Fundamental Principles of Optical Lithography : The Science of Microfabrication - neues Buch

ISBN: 9781119965077

The fabrication of an integrated circuit requires a variety of physical and chemical processes to be performed on a semiconductor substrate. In general, these processes fall into three ca… Mehr…

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2011, ISBN: 9781119965077

The Science of Microfabrication eBook Chris Mack ePUB, John Wiley & Sons Inc, 10.08.2011, John Wiley & Sons Inc, 2011

Nr. 39951382. Versandkosten:, Sofort per Download lieferbar, DE. (EUR 0.00)
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Details zum Buch
Fundamental Principles of Optical Lithography
Autor:
Titel:
ISBN-Nummer:

9781119965077

Detailangaben zum Buch - Fundamental Principles of Optical Lithography


EAN (ISBN-13): 9781119965077
ISBN (ISBN-10): 1119965071
Erscheinungsjahr: 2011
Herausgeber: John Wiley & Sons

Buch in der Datenbank seit 2008-10-14T13:04:22+02:00 (Zurich)
Detailseite zuletzt geändert am 2022-12-26T17:28:37+01:00 (Zurich)
ISBN/EAN: 9781119965077

ISBN - alternative Schreibweisen:
1-119-96507-1, 978-1-119-96507-7
Alternative Schreibweisen und verwandte Suchbegriffe:
Autor des Buches: john mack
Titel des Buches: fundamental principles, lithography

Daten vom Verlag:

Autor/in: Chris Mack
Titel: Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabrication
Verlag: Wiley; John Wiley & Sons
534 Seiten
Erscheinungsjahr: 2011-08-10
Sprache: Englisch
169,99 € (DE)
Not available (reason unspecified)

EA; E101; E-Book; Nonbooks, PBS / Technik/Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik; Elektronische Geräte und Materialien; Electrical & Electronics Engineering; Elektrotechnik u. Elektronik; Halbleiter; Halbleiterphysik; Lithographie; Physics; Physik; Semiconductor Physics; Semiconductors; Halbleiter; Halbleiterphysik; BB; BC

Preface. 1. Introduction to Semiconductor Lithography. 1.1 Basics of IC Fabrication. 1.2 Moore's Law and the Semiconductor Industry. 1.3 Lithography Processing. Problems. 2. Aerial Image Formation - The Basics. 2.1 Mathematical Description of Light. 2.2 Basic Imaging Theory. 2.3 Partial Coherence. 2.4 Some Imaging Examples. Problems. 3. Aerial Image Formation - The Details. 3.1 Aberrations. 3.2 Pupil Filters and Lens Apodization. 3.3 Flare. 3.4 Defocus. 3.5 Imaging with Scanners Versus Steppers. 3.6 Vector Nature of Light. 3.7 Immersion Lithography. 3.8 Image Quality. Problems. 4. Imaging in Resist: Standing Waves and SwingCurves. 4.1 Standing Waves. 4.2 Swing Curves. 4.3 Bottom Antirefl ection Coatings. 4.4 Top Antirefl ection Coatings. 4.5 Contrast Enhancement Layer. 4.6 Impact of the Phase of the Substrate Refl ectance. 4.7 Imaging in Resist. 4.8 Defi ning Intensity. Problems. 5. Conventional Resists: Exposure and Bake Chemistry. 5.1 Exposure. 5.2 Post-Apply Bake. 5.3 Post-exposure Bake Diffusion. 5.4 Detailed Bake Temperature Behavior. 5.5 Measuring the ABC Parameters. Problems. 6. Chemically Amplifi ed Resists: Exposure and BakeChemistry. 6.1 Exposure Reaction. 6.2 Chemical Amplifi cation. 6.3 Measuring Chemically Amplifi ed Resist Parameters. 6.4 Stochastic Modeling of Resist Chemistry. Problems. 7. Photoresist Development. 7.1 Kinetics of Development. 7.2 The Development Contrast. 7.3 The Development Path. 7.4 Measuring Development Rates. Problems. 8. Lithographic Control in SemiconductorManufacturing. 8.1 Defi ning Lithographic Quality. 8.2 Critical Dimension Control. 8.3 How to Characterize Critical Dimension Variations. 8.4 Overlay Control. 8.5 The Process Window. 8.6 H-V Bias. 8.7 Mask Error Enhancement Factor (MEEF). 8.8 Line-End Shortening. 8.9 Critical Shape and Edge Placement Errors. 8.10 Pattern Collapse. Problems. 9. Gradient-Based Lithographic Optimization: Using theNormalized Image Log-Slope. 9.1 Lithography as Information Transfer. 9.2 Aerial Image. 9.3 Image in Resist. 9.4 Exposure. 9.5 Post-exposure Bake. 9.6 Develop. 9.7 Resist Profi le Formation. 9.8 Line Edge Roughness. 9.9 Summary. Problems. 10. Resolution Enhancement Technologies. 10.1 Resolution. 10.2 Optical Proximity Correction (OPC). 10.3 Off-Axis Illumination (OAI). 10.4 Phase-Shifting Masks (PSM). 10.5 Natural Resolutions. Problems. Appendix A. Glossary of Microlithographic Terms. Appendix B. Curl, Divergence, Gradient, Laplacian. Appendix C. The Dirac Delta Function. Index.

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