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INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao
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S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - Taschenbuch

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], PHYSIK ASTRONOMIE REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING THIN FILMS TANTALUM OXIDE STRUCTURE STOICHIOMETRY ELECTRICAL AND OPTI… Mehr…

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S. V. Jagadeesh Chandra S Uthanna G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - Erstausgabe

2011, ISBN: 9783843394222

Taschenbuch

[ED: Kartoniert / Broschiert], [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Autor/Autorin: Jagad… Mehr…

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Jagadeesh Chandra, S. V. Uthanna, S, Mohan Rao, G:
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications - Taschenbuch

2011

ISBN: 9783843394222

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 188 Seiten, Publiziert: 2011-01-18T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.63 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Mehr…

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S V Jagadeesh Chandra:
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films Microelectronic Device Applications - Taschenbuch

2001, ISBN: 9783843394222

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S. V. Jagadeesh Chandra:
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films - Taschenbuch

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP Lambert Academic Publishing], PRINT ON DEMAND Book; New; Fast Shipping from the UK., Books

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Bibliographische Daten des bestpassenden Buches

Details zum Buch
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications
Autor:
Titel:
ISBN-Nummer:

9783843394222


High permittivity dielectrics are studied intensively in the view of their use in the integrated circuits. However, the real emergence of tantalum oxide (Ta2O5) as a dielectric material happened due to its high-dielectric constant, chemical and thermal stability with the promise of compatibility in microelectronic processing. This book covenants with the optimized deposition conditions of Ta2O5 films formed on quartz and p-type Si substrates using dc and rf reactive magnetron sputtering method for structural and optical studies. Further, aluminum metal deposited as a top electrode on Ta2O5 and Si stack to prepare metal oxide semiconductor device for investigating electrical and dielectric properties. The possible ways for depositing good quality Ta2O5 layers on Si, to obtain high dielectric constant explained in this book are quite useful to prepare high quality metal oxide semiconductor device for capacitor applications.

Detailangaben zum Buch - INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications


EAN (ISBN-13): 9783843394222
ISBN (ISBN-10): 3843394229
Gebundene Ausgabe
Taschenbuch
Erscheinungsjahr: 2011
Herausgeber: LAP LAMBERT Academic Publishing

Buch in der Datenbank seit 2009-08-09T09:58:23+02:00 (Zurich)
Detailseite zuletzt geändert am 2023-07-16T07:15:43+02:00 (Zurich)
ISBN/EAN: 9783843394222

ISBN - alternative Schreibweisen:
3-8433-9422-9, 978-3-8433-9422-2
Alternative Schreibweisen und verwandte Suchbegriffe:
Autor des Buches: mohan
Titel des Buches: magnetron, tantalum

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